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「山东有研半导体材料有限公司」共参与 18 项标准
团标 4 项国标 14 项
📊 生成企业对标报告
国家标准14团体标准4
GB/T 43894.3-2026国标
半导体晶片近边缘几何形态评价 第3部分：扇形区域平整度法（ESFQR、ESFQD、ESBIR） 主要起草单位
状态：即将实施
GB/T 43894.2-2026国标
半导体晶片近边缘几何形态评价 第2部分：边缘卷曲法（ROA） 主要起草单位
状态：现行
GB/T 46227-2025国标
半导体单晶材料透过率测试方法 起草单位
状态：现行
GB/T 43894.1-2024国标
半导体晶片近边缘几何形态评价 第1部分：高度径向二阶导数法（ZDD） 主要起草单位
状态：现行
GB/T 1558-2023国标
硅中代位碳含量的红外吸收测试方法 起草单位
状态：现行
GB/T 43315-2023国标
硅片流动图形缺陷的检测 腐蚀法 起草单位
状态：现行
GB/T 42676-2023国标
半导体单晶晶体质量的测试 X射线衍射法 起草单位
状态：现行
GB/T 42789-2023国标
硅片表面光泽度的测试方法 起草单位
状态：现行
GB/T 6616-2023国标
半导体晶片电阻率及半导体薄膜薄层电阻的测试 非接触涡流法 起草单位
状态：现行
GB/T 41652-2022国标
刻蚀机用硅电极及硅环 起草单位
状态：现行
GB/T 26069-2022国标
硅单晶退火片 起草单位
状态：现行
GB/T 32280-2022国标
硅片翘曲度和弯曲度的测试 自动非接触扫描法 起草单位
状态：现行
GB/T 41325-2022国标
集成电路用低密度晶体原生凹坑硅单晶抛光片 起草单位
状态：现行
GB/T 40279-2021国标
硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法 起草单位
状态：现行